แบนเนอร์ แบนเนอร์
รายละเอียดบล็อก
Created with Pixso. บ้าน Created with Pixso. บล็อก Created with Pixso.

ประเด็นสําคัญของการผลิตจํานวนมากและกลยุทธ์การลดความเสื่อมแบบครบวงจรสําหรับ PiG (ฟอสฟอร์ในกระจก) (รายการแรก)

ประเด็นสําคัญของการผลิตจํานวนมากและกลยุทธ์การลดความเสื่อมแบบครบวงจรสําหรับ PiG (ฟอสฟอร์ในกระจก) (รายการแรก)

2026-06-18

กระบวนการผลิต PiG หลัก: การผสมผสานผงแก้วและผงฟอสฟอร → การพิมพ์ด้วยการสับสนเป็นร่างสีเขียว → การซินเตอร์อุณหภูมิสูงเพื่อการบดหนากระบวนการยังรวมเส้นทาง PiGF หนังบางที่พิมพ์ความบกพร่องในการผลิตแบ่งออกเป็น 5 ประเภทหลัก: ความบกพร่องของการปฏิกิริยาเคมีระหว่างผิว, ความบกพร่องของขุมขัดและขัดขวาง, ความบกพร่องของความสอดคล้องทางแสง, ความบกพร่องทางกลของการพิมพ์,และความน่าเชื่อถือ ความบกพร่องการแก่ด้านล่างนี้คือการแยกแยกของสาเหตุรากของความบกพร่องคู่กับการดําเนินการ, การแก้ไขการปรับปรุง implementable

I. การทําลายล้างและการกระจายกระจายของฟอสฟอรัสที่มีความร้อนสูง (ปัญหาแกนที่ทําให้การทํางานสูญเสีย)
1. ความบกพร่องที่มีอยู่
  1. การดับความร้อนและการลดลงอย่างคมชัดของประสิทธิภาพควอนตัม
    กระจก borosilicate/tellurite ปกติต้องปะทะที่ 550 ~ 850 °C ฟอสฟอร์สีแดงไนตริด (CaAlSiN3, SrLiAl3N4) และฟอสฟอร์สีฟลอรซิลิเคต KSF แสดงความทนความร้อนที่ต่ําในอุณหภูมิสูง, อิออนศูนย์แสง (Ce3+, Eu2+) ผ่านการออกซิเดชั่นและการแปลงภาวะความคุ้มค่า, ลดประสิทธิภาพแสงโดยตรง 20% ~ 50% แม้ว่า YAG: Ce จะมีความต้านทานทางความร้อนที่ดีกว่าการแพร่ระบายของอินทรีออนิกส์ที่ ผิวหน้ากระจก-ฟอสฟอรส ยังทําให้ประสิทธิภาพของคอนตัมลดลง.

  2. การเกรดผิวระหว่างกระจกและฟอสฟอร์ส และการสร้างระยะของปริศษะ
    Si4+, Na+ และ B3+ จากกระจกแพร่กระจายเป็นอนุภาค YAG; Y3+ และ Al3+ จาก YAG ละลายในเมทริกซ์กระจก, สร้างชั้นแพร่กระจายของปนเปื้อนที่ไม่เรืองแสงหนาหลายสิบนาโนเมตรชั้นเหล่านี้บล็อกการแปลงแสง, เพิ่มการกระจายแสงและกระตุ้นการเคลื่อนไหวอุณหภูมิสีที่เกี่ยวข้อง

  3. การทําลายของฟอสฟอร์เร่งเร่งโดยการไฮดรอลิสส์
    อ๊อกไซด์โลหะแอลคาลี (Li2O, Na2O, K2O) ภายในกระจกย้ายไปยังพื้นผิววัสดุภายใต้สภาพความร้อนความชื้นระยะยาว (85 °C / 85% RH)ทําให้เกิดความเสียหายต่อกรอบคริสตัลของฟอสฟอร์ไนทไรด์ และส่งผลให้เกิดการพังแสงที่รุนแรงในระยะยาว และการสลับพิกัดสี.

2การหลีกเลี่ยงวิธีแก้ไข
  1. (1) การปรับปรุงรูปแบบเมทริกซ์กระจก (การควบคุมแหล่งของการกระจายกระจก)
    • ระบบกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกจํากัดความหนาชั้นกระจายภายใน 50 nm และรักษาประสิทธิภาพคอนเทียมเดิมของฟอสฟอรสดิบมากกว่า 95%.
    • กระจกที่มีอัลคาลีต่ํา / ไม่มีอัลคาลี: แทนโลหะอัลคาลีด้วย ZnO, CaO และ BaO เพื่อลดสารประกอบ Na2O และ Li2O และปรับปรุงความน่าเชื่อถือต่อความร้อนความชื้นกระจกฟลอรฟอสเฟตอุณหภูมิต่ําที่ใช้สําหรับฟอสฟอร์ไนไตรไนทรีดเพียงต้องการการซินเตอร์ที่ 350 ~ 500 °C, การกําจัดการละลายทางความร้อนของฟอสฟอร์ไนทรีดแดงโดยสมบูรณ์
    • กระจกที่มี Tg สูงและหน้าต่างอุณหภูมิการอ่อนที่แคบ: ลดช่วงอุณหภูมิระหว่างการอ่อนและการกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระจกกระ
  2. (2) อุณหภูมิการซินเตอร์ที่ต่ํากว่า & กระบวนการซินเตอร์ที่เร็ว
    • เร็วในการปรับปรุงความร้อน (RTA) / การปรับความดันด้วยการนํา: ใช้อัตราการทําความร้อน 20 ~ 50 °C / s เพื่อทําให้ความหนาแน่นเสร็จภายในสิบวินาที, ลดเวลาการเผชิญหน้ากับอุณหภูมิสูงอย่างมากชั้นกระจายที่เกิดขึ้นมีความหนาเพียง 1 ~ 2 nm, ซึ่งลดการพังแสงของไนทรีด PiG ได้อย่างสําคัญ
    • รูปแบบอุณหภูมิการอบอุ่นและการเก็บระยะ:อุณหภูมิต่ํา (การกําจัดความชื้นและสารอินทรีย์อย่างเพียงพอที่ 300 ~ 400 °C) → การทําความร้อนอย่างรวดเร็วถึงอุณหภูมิการอ่อนนุ่ม → ระยะเวลาการเก็บรักษาที่สั้น (5 ~ 30 นาที) → การเย็นช้า, หลีกเลี่ยงการอัดฟอสฟอร์สในอุณหภูมิสูงนาน
    • การปั่นปูนที่คุ้มกันจากบรรยากาศ: เตาเผาไนตรเจนความบริสุทธิ์สูง / บรรยากาศอ่อนแอจําเป็นสําหรับไนตริดและฟอสฟอร์ KSF เพื่อแยกออกซิเจนและปืนน้ําและป้องกันการออกซิเดน Eu2 +YAG สามารถซินเตอร์ในอากาศได้; การป้องกันไนโตรเจนยังคงถูกแนะนําสําหรับผลิตภัณฑ์ที่มีสเปคสูง
  3. (3) การบําบัดพื้นผิวของฟอสฟอร์
    • ผิวโฟสฟอร์เคลือบด้วยชั้นป้องกันของ SiO2, Al2O3 หรือวัสดุ YAG homogeneous 50 ~ 200 nmการเคลือบสร้างชั้นป้องกันเพื่อป้องกันการแพร่ระบายของไอออนและแยกการกัดจากกระจกหลอม.